ENTJ 호랭이의 두리번

이번 시간에는 지난 시간에 이어 Cleaning 장비의 종류와 주요 모듈, 장비 분류 기준에 대해 알아보겠습니다. Clean 공정 기초는 아래 포스팅 참고해주시기 바랍니다. 2023.08.10 - [분류 전체보기] - 반도체 직무 공부 #9 (반도체 제조공정 장비운영 : Clean_(1)주요공정) 반도체 직무 공부 #9 (반도체 제조공정 장비운영 : Clean_(1)주요공정) 안녕하세요. 이번 포스팅은 꿀린(?)이라고도 불리는 Clean 공정에 대해 알아보겠습니다. 타 공정에 비해 직무 상 단순해 보이는 작업이지만, 반도체 수율에는 아주 중요한 역할을 담당하는 공정입 doitnowandandand.tistory.com 반도체 제조공정 장비운영 Clean공정 주요모듈 1. Immersion Tank Typ..

지난 2개의 포스팅에 이어 이번 산화공정의 마지막 시간에는 산화공정 장비에 의한 불량에 대해 알아보겠습니다. 반도체 제조공정 장비운영 산화 공정불량 이번 시간에는 확산 공정장비에서 발생할 수 있는 불량은 무엇이며, 어떻게 예방할 수 있는지 알아보겠습니다. 1. 확산 공정장비에서 발생할 수 있는 이상 징후 1. Center Thermocouple 이상에 의한 Temp Reading 불량 2. Fitting 고정상태 불량으로 인한 Thickness High 3. Valve Fail로 Tube 압력이 틀어져 Particle 발생 4. 옆 장비 PM으로 외부 Particle 유입 5. Dummy Wafer로부터 오염 발생 2. 확산 공정장비 불량 예방책 1. 부품·모듈교환, 주기 등 준수 2. 정품, 정위치 등..

지난 시간인 산화공정 기본에 이어 오늘은 산화공정의 세부 모듈을 알아보겠습니다. 처음부터 차근히 공부하고 싶으신 분은 첫 포스팅부터 시작하시는 것을 추천합니다. 2023.08.07 - [분류 전체보기] - 반도체 직무 공부 #1 (반도체 제조공정 장비운영 : 산화공정_(1)) 반도체 제조공정 장비운영 산화공정(Oxidation) 세부 모듈 1. 산화 및 확산 공정의 주요 모듈 1. Boat : 실리콘 웨이퍼를 탑재하는 장치 2. Torch : H2와 O2를 반응시켜 수증기를 발생시키는 장치 3. MFC(Mass Flow Controller) : Gas의 유량을 조절하는 장치 2. LP-CVD공정의 주요 모듈 1. APC(Auto Pressure Controller) : Tube 내의 압력을 조절하는 장치..

직장생활은 가볍게 선택할 수 없다. 회사의 네임만, 산업만 생각하고 선택을 하면 분명 후회를 하게 된다. 하루 중 가장 많은 시간을 보내게 될 직장에서, 원하는 직무를 다루게 되는 것은 사전에 준비한 자만이 가질 수 있는 특권이다. 제대로 공부하고, 본인의 성향을 알자. 그 첫번째 시간. 반도체 제조공정 장비운영 산화공정(Oxidation) 1. 산화공정 : 반응로에서 고온(800~1200도)에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼 표면과 화학반응을 시켜 '얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO2)을 형성'시키는 공정 1) 건식산화(Dry Oxi-) : 산소(O2)와 반응 Si + O2(gas) ---> SiO2(solid) 2) 습식산화(Wet Oxi-) : Pyro 수증기(H2O)와 반응 Si + 2H2O(va..