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안녕하세요.
이번 포스팅은 꿀린(?)이라고도 불리는 Clean 공정에 대해 알아보겠습니다.
타 공정에 비해 직무 상 단순해 보이는 작업이지만,
반도체 수율에는 아주 중요한 역할을 담당하는 공정입니다.
반도체 제조공정 장비운영
Clean 주요공정
Clean = 세정
- Clean Wafer
: Wafer 상의 Particle, 금속불순물, 유기오염물 및 불필요한 표면막 등을 제거하여
이후 공정이 원활하게 진행되도록 하는 것
<세정 방법>
건식세정 | 습식세정 |
(습식세정)
1. RCA 세정 : SC1(Standard Cleaning-1) / SC2(Standard Cleaning-2)
2. Piranha 세정
3. 인산 세정
4. 불산 세정
5. 유기용제 세정
6. 초음파 세정
<건조기 종류>
1. Spin Dryer
2. IPA Dryer
3. Marangoni Dryer
<새로운 개념의 세정 방법>
1. 오존(O3) 세정
2. 드라이아이스 세정
3. 아르곤(Ar) 에어로졸 세정
4. 레이저(Laser) 세정
5. 자외선(UV) 세정
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