반도체 직무 공부 #9 (반도체 제조공정 장비운영 : Clean_(1)주요공정)

안녕하세요.

 

이번 포스팅은 꿀린(?)이라고도 불리는 Clean 공정에 대해 알아보겠습니다.

타 공정에 비해 직무 상 단순해 보이는 작업이지만,

반도체 수율에는 아주 중요한 역할을 담당하는 공정입니다.

 

반도체 제조공정 장비운영

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Clean 주요공정

 

Clean = 세정 

 

세정공정

 

- Clean Wafer

  : Wafer 상의 Particle, 금속불순물, 유기오염물 및 불필요한 표면막 등을 제거하여

    이후 공정이 원활하게 진행되도록 하는 것

 

<세정 방법>

건식세정

습식세정

(습식세정)

1. RCA 세정 : SC1(Standard Cleaning-1)   /  SC2(Standard Cleaning-2) 

2. Piranha 세정

3. 인산 세정

4. 불산 세정

5. 유기용제 세정

6. 초음파 세정

 

 

<건조기 종류>

1. Spin Dryer

2. IPA Dryer

3. Marangoni Dryer

 

 

<새로운 개념의 세정 방법>

1. 오존(O3) 세정

2. 드라이아이스 세정

3. 아르곤(Ar) 에어로졸 세정

4. 레이저(Laser) 세정

5. 자외선(UV) 세정